Когда в реакторе достигается критичность и его температура возрастает в результате реакции деления, интенсивность увеличения температуры на внутренней поверхности изолятора определяется интенсивностью увеличения температуры активной зоны и теплообменом между активной зоной и изоляцией.

Простым приближением к действительно протекающему быстроизменяющемуся процессу является предположение о том, что температура внутренней поверхности возрастает во времени линейно до тех пор, пока не достигнет температуры активной зоны. В то же время внешняя поверхность остается изолированной (т. е. тепло не передается отражателю). При таких условиях внутри изолятора будет достигаться квазистационарный профиль температуры, поскольку температура на внутренней стенке станет расти во времени линейно.

Таким образом, распределение температуры Т(х) поперек стенки будет иметь константой величину dT(x)/dt = const = dTs/dt, где Ts - температура внутренней стенки. Для этого особого случая при нахождении распределения температуры в любой момент времени в течение квазистационарного периода можно использовать уравнение.